테스, DRAM·NAND 동시 수혜에 신규 장비 기대감까지…"전공정 장비 최선호주 주목"

"BSD 장비의 긍정적 피드백과 함께 1c 나노향 High Density ACL 장비까지 하반기 실적 반영"

[프라임경제] 하나증권은 28일 테스(095610)에 대해 디램(DRAM)과 낸드(NAND) 양쪽에서 수혜가 가능하고, 신규 장비를 통해 고대역폭메모리(HBM)로까지 영역이 확대되는 모멘텀을 확보했음에도 12개월 선행 주가수익비율(PER) 20.2배에 불과하다며 투자의견 '매수' 및 '전공정 장비 최선호주' 의견을 유지했다.

ⓒ 테스

목표주가는 12개월 선행 내 내년 비중 확대 영향과 함께 멀티플도 올리며 기존 6만7000원에서 11만7000원으로 상향했다.

김록호 하나증권 연구원은 "메모리 업체들의 투자 확대 및 내년 이후 신규 팹(Fab)에 대한 기대감이 반영되며, 글로벌 전공정 장비 업체들의 평균 PER이 35.5배에 달하게 됐다"며 "국내 업체들도 해당 수혜를 같이 누릴 수 있기 때문에 글로벌 업체들의 멀티플 상향에 동승 가능하다. 이제 국내 전공정 장비 업체들의 목표 PER은 25배로 안착 가능하다"고 설명했다.

하나증권에 따르면 테스의 올해 1분기 예상 매출액과 영업이익은 지난해 동기 대비 각각 16% 늘어난 977억원, 11% 성장한 180억원이다. 

지난해 4분기 매출액이 전 분기 대비 73% 증가하며 1200억원에 육박했었던 반대급부로 전분기대비 외형이 소폭 축소될 것으로 추정했다. 

지난해 동기 대비로는 16%의 견조한 성장률을 기록할 것으로 바라봤다. 삼성전자의 P4, SK하이닉스의 M15X의 디램 신규 투자와 양사의 낸드 전환 투자 수혜가 지속되고 있다. 

아울러 견조한 메모리 수요로 인해 고객사들의 투자 속도가 예상보다 빨라지고 있어, 디램 전환 투자 규모 역시 당초 예상치를 상회할 가능성이 높아졌다는 분석이다.

김 연구원은 "올해 동사의 분기 매출액 흐름은 상고하저를 예상했었다. P4, M15X 신규 투자가 집중되는 상반기에 매출액이 상대적으로 높을 것으로 추정했기 때문"이라고 언급했다.

이어 "다만 예상과 달리 국내 고객사들의 디램과 낸드 전환 투자 규모가 예상보다 크고, 내년까지 시간을 들여 투자하려던 계획이 앞당겨지면서 하반기에도 견조한 매출액 달성이 가능해진 것"이라며 "매 분기마다 전 분기 대비 외형 성장이 가능할 것"이라고 추정했다.

또한 "내년에는 SK하이닉스의 용인 공장이 완공되기 때문에 향후 외형 성장 가시성 또한 확보됐다"며 "고객사의 투자 확대에 따른 수혜와 더불어 동사 독자적인 모멘텀도 기대된다. 디램향 웨이퍼 후면 증착(BSD) 장비가 HBM향으로 긍정적인 피드백을 받고 있어, 이르면 하반기부터 매출액에 기여할 것"이라고 짚었다.

마지막으로 "뿐만 아니라 1c 나노향 High Density ACL 장비도 하반기 실적에 반영될 가능성이 높아진 것으로 파악된다"며 "해당 장비들의 공급을 통해 평균판매단가(ASP) 상승이 기대되는 만큼 외형 성장뿐만 아니라 수익성 개선 역시 가능할 것"이라고 조언했다.