SK하이닉스 기술 中 유출…협력사 임원 무더기 실형 확정

대법 "국가핵심기술 유출…산업기술보호법 위반 성립" 판시

[프라임경제] SK하이닉스(000660)의 반도체 핵심 기술과 삼성전자(005930) 자회사 세메스의 장비 도면을 중국에 유출한 혐의로 기소된 협력업체 부사장과 직원들에게 실형이 확정됐다.

서울 서초구 대법원 전경. ⓒ 연합뉴스

대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반 혐의로 재판에 넘겨진 SK하이닉스 협력사 부사장 A씨(61)에게 징역 1년 6개월을 선고한 원심을 확정했다.

A씨와 함께 기소된 연구소장 등 직원 3명도 1년~1년 6개월의 실형을 확정받았다. 1심에서 무죄 판결을 받은 직원 1명에게도 징역 8개월의 실형이 선고됐다.

또 해당 협력업체 법인에도 양벌규정에 따라 벌금 10억원이 확정됐다.

이들은 2018년께 SK하이닉스와 공동 개발한 반도체 세정 레시피, HKMG(하이케이메탈게이트) 공정 기술 등 핵심 기술을 중국 반도체 업체에 유출한 혐의를 받는다. 

HKMG는 차세대 D램 제조 공정으로, 속도 향상과 전력 절감 효과를 동시에 기대할 수 있는 국가핵심기술이다.

또한 삼성전자 자회사인 세메스의 전직 직원을 통해 초임계 세정 장비 도면 등을 불법 취득한 뒤, 이를 토대로 중국 수출용 장비를 제작한 혐의도 적용됐다.

1심은 일부 혐의에 대해 무죄로 판단했지만, 2심은 대부분 유죄로 인정하고 형량을 높였다. 대법원도 원심 판단에 법리 오해가 없다며 양측 상고를 모두 기각했다.

대법원은 "원심 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술보호법 위반에서 정한 국가핵심기술과 첨단기술, 부정경쟁방지법에서 정한 영업비밀 등에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다"고 밝혔다.