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DGIST-UNIST-IBS 공동연구팀, 이중층 건식 전사 인쇄기술 개발

초고해상도 화면을 도장 찍듯이 만들어내...AR/VR 몰입감 향상 기대

최병수 기자 기자  2024.08.06 11:22:07

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[프라임경제] DGIST(총장 이건우) 에너지공학과 양지웅 교수팀이 UNIST 신소재공학과 최문기 교수와 IBS 나노입자 연구단 현택환 단장과의 공동연구를 통해 발광층과 전자전달 층을 동시에 기판에 옮기는 이중층 건식 전사 인쇄기술을 개발했다. 


이 기술은 증강현실(AR)과 가상현실(VR)에서 더욱 생동감 넘치는 화면을 제공하며, 몰입감을 크게 향상시킬 것으로 기대된다.

최근 웨어러블, 모바일, 사물인터넷(IoT) 기술의 발전으로 증강현실(AR), 가상현실(VR), 웨어러블 디스플레이에 대한 수요가 증가하고 있다. 손목이나 눈에 착용하는 웨어러블 디스플레이는 작은 화면에 다양한 정보를 담아야 하며, 착용 시 어지러움을 예방하기 위해 초고해상도 패터닝 기술이 필요하다.

양자점 나노입자는 높은 색 순도와 색 재현도로 인해 차세대 디스플레이 발광 물질로 각광받고 있다. 

그러나 기존의 건식 전사 인쇄기술로 양자점 잉크를 도장해 기판에 옮기는 방식은 초고해상도 픽셀 구현은 가능하지만, 발광 효율이 5% 이하로 낮아 실제 디스플레이 제작에 활용되지 못했다.

이에 DGIST 양지웅 교수는 UNIST 최문기 교수, IBS 현택환 단장과 공동연구를 통해 적은 전류로도 밝은 빛을 낼 수 있는 '발광층-전자전달층 이중층 건식 전사 인쇄기술'을 개발했다. 

이를 통해 고해상도 화소 패터닝 기술을 구현하고, 초고해상도와 고효율을 동시에 충족하는 발광 소자를 제작했다.

새로운 고밀도 이중층 박막은 발광 소자 제작 시 계면 저항을 감소시켜 전자 주입을 원활하게 하고 누설 전하의 이동을 제어해, 최대 23.3%의 높은 외부 양자 효율(EQE)을 나타냈다. 

이는 양자점 발광 소자의 최대 이론 효율과 유사한 수치다. 또한, 연구팀은 새로운 박막을 이용해 최대 2만526 PPI 양자점 초고해상도 패턴을 구현하고 반복 인쇄를 통해 8cm x 8cm 대면적화에도 성공하여 제품 상용화를 위한 대량 생산 가능성도 확인했다.

DGIST 양지웅 교수는 "이중층 건식 전사 인쇄 기술을 통해 계면 저항을 감소시켜 전자 주입을 원활하게 하고, 초고해상도와 고효율을 동시에 충족하는 발광 소자를 제작했다"며, "이번 기술로 제작된 이중층 박막을 활용한 발광 소자는 최대 23.3%의 높은 외부 양자 효율을 나타냈으며, 이는 양자점 발광 소자의 최대 이론 효율과 유사한 수치로 매우 의미 있는 결과다"고 밝혔다.

UNIST 최문기 교수는 "앞으로 후속 연구를 통해 색 재현도와 색 순도가 높은 양자점을 스마트 웨어러블 장치 등에 광범위하게 적용할 수 있도록 노력하겠다"고 말했다.

한편, 이번 연구는 한국연구재단 및 삼성미래기술육성사업 등의 지원을 통해 이뤄졌으며, 광학 분야 세계 최고의 국제학술지인 '네이처 포토닉스(Nature Photonics)'에 8월 온라인 게재됐다.