[프라임경제] 삼성전자(005930)가 올해 연간 시설투자 규모를 전년 대비 약 두배 올린다.
삼성전자는 31일 올해 전체 시설투자는 약 46조2000억원이라고 공시했다. 이는 지난해 25조5000억원 대비 대폭 증가한 수치로 사업별로는 반도체 29조5000억원, 디스플레이 14조1000억원 수준이다.
3분기 시설투자는 총 10조4000억원이며 반도체에 7조2000억원, 디스플레이에 2조7000억원이 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9000억원이 집행됐다.
메모리 반도체는 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환, 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.
디스플레이 분야는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행 중이다.
삼성전자 관계자는 "4분기에는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며, 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망"이라고 말했다.
