[프라임경제] 플라즈마 관련 특허 신청이 증가하는 추세다.
플라즈마는 전기적 성질을 띤 전자, 이온 그리고 중성 입자로 구성되어 있어서, 전기장과 자기장에 의한 제어가 가능하기 때문에 다양한 분야에 응용될 수 있는 물질이다. 이를 이용해서 반도체 고밀도 집적회로 등 정밀한 제조 공정과, 디스플레이, 플라즈마 표면처리를 거친 유리창, 플라즈마 처리 섬유 등 산업 공정 곳곳에 활용하고 있다.
특허청에 따르면, 2012년 15건에 불가했던 플라즈마 관련 특허출원이 지난해 165건으로 증가한 것으로 알려졌다. 내국인의 경우 2013년까지는 출원이 없다가 2014년 3건에서 2016년 108건으로 매년 60% 이상의 증가세를 보여주고 있다.
구체적인 기술 분야를 살펴보면 반도체 생산을 위한 반도체 표면 공정과 같은 표면 처리용 플라즈마 처리장치가 2012년 4건에서 2014년 28건, 2016년 136건으로 급증하여, 최근 5년간 플라즈마 출원 기술 분야의 대부분인 72%를 차지하고 있다.
