[프라임경제] 삼성전자(005930)가 지난해에 이어 올해도 반도체 업계에서 가장 많은 시설투자를 할 것으로 전망된다.
7일 시장조사기관 IC인사이츠에 따르면 삼성전자 반도체 부문의 올해 자본적 지출(CAPEX·시설투자) 전망치는 125억달러(약 14조5000억원)로 지난해보다 11% 늘어날 전망이다. 지난해는 전년보다 13% 줄어든 113억달러를 투자했다.
SK하이닉스(000660)는 올해 지난해 대비 16% 증가한 60억달러(약 7조원)를 집행할 계획이다. 이는 세계 4위 규모다. 지난해는 전년보다 14% 줄어든 51억8800만달러(약 6조5000억원)였다.
양사는 지난해 D램 시장의 약세로 시설투자를 줄였지만, 하반기부터 성장세로 돌아서고 3D 낸드 투자도 증가하면서 올해 전체적인 투자 규모를 늘린 것이라는 풀이가 나온다.
삼성전자는 경기도 평택에 세계 최대 규모인 반도체 단지를 짓고 있다. 올해 중반부터 V-낸드를 양산할 계획이다.
SK하이닉스는 올해 D램 투자는 줄이고 3D 낸드 투자는 늘린다. 올해 시설투자 증가분은 경기도 이천 공장 M14의 클린룸 건설과 관련 인프라에 쓰일 것으로 관측된다.
