[프라임경제] 삼성전자(005930)가 10나노미터(㎚) 3세대 공정을 공개했다.
3일 업계에 따르면 삼성전자는 이날 미국 캘리포니아주 산타클라라에서 고객사와 파트너사를 대상으로 '삼성 파운드리 포럼'을 열고 14㎚와 10㎚ LPU(Low Power Ultimate) 공정 확대 계획을 밝혔다.
앞서 삼성전자는 지난달 중순 반도체 업계 최초로 10㎚ 로직 공정 양산을 시작한 바 있다.
14㎚ 4세대 공정인 14LPU는 3세대 LPC(Low Power Compact) 대비 같은 전력으로 더 좋은 성능을 보여줘 복잡한 연산 수행이 필요한 제품에 적절하다.
10㎚ 3세대 공정인 10LPU는 이전 세대 공정인 LPE(Low Power Early)와 LPP(Low Power Performance)와 같은 성능을 유지하면서도 면적은 줄였다.
업계는 미세공정 패터닝 기술의 한계로 EUV(Extreme Ultraviolet) 기술이 도입되는 7㎚ 공정 양산이 이뤄지기 전까지는 10LPU가 비용대비 효율이 가장 뛰어난 공정이 될 것으로 보고 있다.
