[프라임경제] 한국과학기술연구원(KIST)이 강유전체 반도체의 크기를 줄이면서도 성능을 극대화하는 쾌거를 이뤘다.
3일 KIST에 따르면 KIST 산하의 전자재료연구센터에서 연구 중인 정두석 박사팀이 강유전체 반도체의 크기와 성능 문제를 동시에 해결할 원리를 규명했다.
전기가 통하지 않는 '유전체'에 전압을 흘려주면 +, -의 전기쌍극자가 형성되고 이 쌍극자가 분리되면서 발생하는 전기력으로 전하(정보)를 저장할 수 있게 된다.
이런 특성에 따라 유전체는 컴퓨터 D램에 많이 사용되지만 유전체에 전압을 제거하면 분극현상이 사라지는 동시에 메모리 내 저장된 정보도 소멸된다는 문제가 있다.
이를 극복하고자 '강유전체'를 쓰면 유전체와 달리 전기를 꺼도 분극현상이 유지되고, 저장된 정보도 사라지지 않는다. 다만 강유전체 면적과 전하저장용량은 비례하기 때문에 반도체의 크기가 작아지면 많은 정보를 담기가 어려운 또 다른 숙제가 생긴다.
이 때문에 나노미터(㎚) 수준의 강유전체 박막을 이용한 강유전체 반도체 연구가 주목을 받고 있다. 정 박사팀은 양쪽의 고민을 모두 해결할 수 있도록 강유전체 터널접합소자를 파고들어 좋은 성과를 거뒀다는 것이 KIST의 설명이다.
